Aplicativo
Aplicado em difusão de wafers de silício e outros equipamentos de tratamento térmico, para manter a uniformidade e estabilidade da temperatura do campo térmico interno, para garantir a qualidade do processamento de wafers de silício.
Características
Alta pureza, resistência ao calor, desempenho de vedação e dimensão de precisão.
Tamanho do produto (unidade): mm
| Faixa OD | Faixa de altura |
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200-600 Customizável |
Customizável |
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